上海光机所EUV光刻技术获重大突破（上海光刻机研究所）
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光刻机技术加速突破,美专家:ASML的时代正在结束
高端光刻机已入驻： 弘芯半导体已经引进了价值千万美元级的ASML高端光刻机，这是实现14nm工艺的关键设备之一。 研发正在进行中： 弘芯半导体高层已明确表示正在研发14nm工艺，这意味着该公司在技术层面正在向这一目标迈进。
无尘、恒温环境：光刻机需要在无尘、恒温的环境中工作，以避免尘埃影响光的精准传输。抗震设计：光刻机本身的精密性要求机房必须稳定，振动控制在微米级别，因此设备下方的抗震设计不可或缺。综上所述，EVU光刻机的研发难度极高，涉及多个领域的前沿技术和复杂工艺。
- 新能源：宁德时代动力电池全球市占率37%，比亚迪电动车技术路线引领行业。 美国遏制的局限性 - 半导体设备对华出口管制倒逼国产替代，2023年中国半导体设备采购额中本土占比升至35%（SEMI数据）。- 荷兰ASML仍对华出售非EUV光刻机，韩国三星西安工厂扩产，显示全球供应链难以完全脱钩。
为什么ASML能成为全球唯一一家生产EUV光刻机的厂家?
1、年，Arthur在ASML的创立中发挥了关键作用，与飞利浦合作开发光刻机，ASML如今是全球唯一能生产7nm制程芯片光刻机的厂商，且在高端光刻机市场占据主导地位。ASMI和ASMPT分别专注于前段和后段半导体制造工序，后者在全球封装和测试设备市场中独占鳌头。
2、ASML在光刻机领域是无可争议的世界霸主。光刻机是芯片生产中必不可少的设备，ASML是一家荷兰公司，专门生产光刻机。光刻机是生产芯片的最为关键的设备之一。 ASML的光刻机已经能够制造7nm以下制程的芯片，单台光刻机的售价已经超过了一亿美元，而且还不是现货。
3、随着技术进步，ASML不断升级换代其光刻机，目前的旗舰产品是EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机，实现了单个光刻层的最小线宽突破7纳米，是全球芯片制造技术领域的重要突破。除了ASML，其他公司也在研究EUV技术，但ASML是唯一能够批量生产商业化EUV光刻机的公司，其产品被广泛应用于全球主要半导体制造企业。
光刻机技术最厉害的国家
ASML虽然是一家荷兰公司，但其背后有着欧盟和美国的技术支持。德国先进的机械工艺、世界级的蔡司镜头以及美国提供的光源等关键技术，都为ASML的光刻机技术提供了强有力的支撑。这种跨国技术合作使得ASML在光科技术方面得以飞速发展，达到了行业领先的水平。
中国、日本、荷兰。在能够制造机器的这几家公司中，尤其以荷兰（ASML）技术最为先进。价格也最为高昂。光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的产物。
德国光刻机在技术层面上相当先进，具备高精度和高效率的特点。德国的光刻机制造商在技术研发上持续投入，使得其产品在全球范围内享有盛誉。这些光刻机能够实现纳米级别的精确刻画，对于微电子行业尤为重要。它们采用先进的激光技术和精密的光学系统，确保在硅片上刻画出精细的电路图案。
韩国 韩国是光刻机的另一个重要生产国，其中Samsung和Hynix是韩国光刻机制造商的代表。Samsung和Hynix都是全球领先的半导体制造商，它们自主生产的光刻机主要用于自身生产线。
使其遵守其规定。 关于我国何时能制造出最先进的光刻机，目前尚难以预测，但这不会是近几年的事。即便华为投入重金研发，短期内也难以追上阿斯麦尔等公司数十甚至百年的技术积累。不过，我相信在未来的某个时刻，我们国家多个行业和公司的共同努力下，我们有望追赶上最先进的技术。
2024年!“中国芯”还需要euv光刻机吗?
1、目前，不清楚三大件来自哪国的哪家供货商，不过，ASML只需要按部就班进行测试，估计能在2023年发布High-NA EUV光刻机的原型机。然后到2024年量产，2025年大批量出货，并且在这之后成为ASML新的旗舰主力。在未来5到10年内，High-NA EUV光刻机将带领世界芯片工艺走上新的高度。
2、初，中芯国际便以5亿美金的天价，向荷兰ASML购买了一台EUV光刻机，迄今仍未取得，这足已突显我国在光高新 科技 层面有多被动。中国也是有公司致力于攻破光刻机技术，在其中最具标志性的便是上海微电子。前不久，上海微电子就公布将于2021-2022年交货一台国产光刻机，但它是28nm的光刻机。
3、中芯的14nm已经非常成熟，年底就要试产7nm，和台积电基本上是2年左右的差距，接下来很尴尬的一点就是，中国目前没有EUV极紫外光刻机，无法量产5nm芯片。
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